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株式会社ブイテックス

従業員数 306資本金 32億円
加工方法化成処理
設備付帯設備表面処理装置その他
対応可能な材料アルミダイカスト合金(ADC)SUS304SUS316・SUS316L

株式会社ブイテックス概要

同社は、IT・ハイテク産業向けの真空バルブと、各種プラントや圧力容器の安全を守るラプチャーディスク(破裂板)を製造しています。半導体、FPD、薄膜ソーラーパネル、ハードディスク製造装置向けに真空バルブを提供し、高い信頼を得ています。また、日本で唯一のラプチャーディスクメーカーとして、国内設計・生産にこだわり、原子力プラントやケミカルプラントなど幅広い産業に貢献しています。設計から製造、検査まで一貫した生産体制により、顧客の多様なニーズに対応しています。

株式会社ブイテックス事業内容

真空バルブの製造、真空機器及び装置の製造、原子力用バルブの製造、ラプチャーディスクの製造、安全弁の製造、新エネルギー・省エネルギー用特殊弁の製造

株式会社ブイテックス設備情報

設備メーカー特徴・能力保有台数
切粉圧縮機--1台
工場排水浄化装置--1台
リサイクル資源置場--1台

株式会社ブイテックス詳細情報

従業員数
306名
資本金
32億円
郵便番号
〒140-0013
住所
東京都品川区南大井六丁目21-12
電話番号
029-285-0601
FAX
03-3765-4168
公式サイト
https://www.vtex.co.jp/index.html

株式会社ブイテックス沿革

1949年岸川光男が有限会社岸川バルブ製作所を創業。ペニシリン製造装置用弁、真空弁、遮断器用弁、変圧器用弁を製作
1956年合繊用バルブを開発し、製作販売を開始
1959年株式会社岸川特殊弁製作所に改組
1961年東海工場第1期建設工事を完了
1963年ラプチャーディスクを完成
1966年科学技術庁より原子力平和利用委託研究(高速増殖炉用Na弁)の試作品を完成
1967年大阪支社を開設
1970年東海工場第2期工事を完了
1971年東京工場生産設備を東海工場に集結
1973年本社を東京都品川区南大井の現在地に移転
1974年東海工場第3期建設工事を完了
1977年核融合(臨界プラズマ実験装置JT-60)用超高・高真空用バルブの研究開発に着手
1986年全金属製高速遮断バルブ(FCV)を開発し、製作販売を開始
1987年全金属二重膜シールゲートバルブ(AI)を開発し、製作販売を開始
1989年無摺動バルブを開発し、製作販売を開始
1990年FEL用超短パルス電子銃を製作
東北大学との共同研究によりウルトラクリーン振り子式ゲートバルブの開発に成功
1992年日立造船(現カナデビア)グループに入る
Spring-8用バルブとしてオールメタルゲートバルブ、アングルバルブを受注
1993年ユニカムゲートバルブの開発に成功し、販売を開始
1996年ドアバルブの改良開発に成功
1998年社名を株式会社ブイテックスに変更
ISO9001を認証
1999年日造精密研磨株式会社を傘下に入れる
2001年ペンドロール弁の製品化に成功
2003年茨城県常陸大宮市に「大宮作業所」を開設
ISO9001:2000登録
2004年韓国にクリーンルーム新設
2005年韓国京畿道城南市中院区大院洞に韓国支店開設
2006年太陽光パネル製造装置用バルブ「BOXER」を開発
東海工場にクリーンルーム棟新設
日造精密研磨株式会社を売却
2007年新型工作機械3台を導入
2008年新型工作機械2台を導入
自社製APCコントローラーの開発
2010年韓国支店を京畿道安山市壇園區城谷洞に移転
2011年2億円増資(資本準備金1億円含む)
2012年4億円増資(資本準備金2億円含む)
韓国現地法人「VTEX KOREA Co.,Ltd.」設立
東海工場においてISO14001:2004の認証取得
2015年ラプチャーディスク用にASME(UD)スタンプ取得
米国現地法人「VTEX America inc.」設立
2016年ラプチャーディスクでサウジアラムコ社(Saudi Arabian Oil Company)から、ベンダーとして認定を受ける
2017年中国現地法人「VTEX Shanghai Co.,Ltd.」設立
2019年東海工場に半導体製造装置用バルブ生産棟を新設
2022年大阪支社を大阪府大阪市中央区瓦町の井門瓦町ビルに移転
本社を東京都品川区南大井の大森プライムビルに移転