Eigyo 営業製作所
株式会社エイコー
従業員数 6人
加工方法蒸着電子ビーム溶接機能検査
設備電子ビーム溶接機放射線検査装置真空蒸着機
対応可能な材料アルミ合金（6000系）SUS304中炭素鋼（S45C・S50C）
株式会社エイコーの概要
官公庁、大学、民間研究機関向けに真空機器の製造・販売を手がけています。特に超高真空技術を応用した蒸着装置やスパッタリング装置などの成膜装置を主力としています。電子顕微鏡用試料作製装置や関連機器の提供を通じて、様々な分野の基礎研究を支援しています。EB蒸着やスパッタリング、接合などの受託試料作成サービスも提供しています。
株式会社エイコーの事業内容
真空機器の製造、電子顕微鏡用試料作製装置の製造・販売、成膜装置の製造・販売、超高真空応用機器の製造・販売、電子ビーム及びイオンビーム応用機器の製造・販売、受託試料作成
株式会社エイコーの設備情報
| 設備 | メーカー | 特徴・能力 | 保有台数 |
|---|---|---|---|
| 電子ビーム及びイオンビーム応用機器 | - | - | - |
| 電子線回折装置 | - | - | - |
| 真空蒸着装置 | - | - | - |
| 電子顕微鏡用各種試料作製装置 | - | - | - |
| PXP成膜装置 | - | - | - |
| ロールコーター装置 | - | - | - |
| スパッタリング装置 | - | - | - |
| 超高真空応用機器 | - | - | - |
| 接合装置 | - | - | - |
| CVD装置 | - | - | - |
| 直線導入機 | エイコー | - | - |
| プラズマCVD装置 | - | - | - |
| 特注装置 | エイコー | - | - |
| 回転導入機 | エイコー | - | - |
| 分子線エピキタシー装置 | - | - | - |
株式会社エイコーの詳細情報
- 従業員数
- 6名
- 郵便番号
- 〒101-0044
- 住所
- 東京都千代田区鍛冶町二丁目10-7
- 電話番号
- 03-5297-1031
- 公式サイト
- https://www.1974eiko.co.jp/
株式会社エイコーの沿革
| 1974年 | 電子顕微鏡周辺機器、研究用各種装置等の設計、製造を主業務とし、茨城県東海村に資本金200万円で株式会社エイコー・エンジニアリングを設立。 |
|---|---|
| IB-1型 イオンコーターを開発、全国販売を始める。 | |
| 1975年 | IB-2型、IB-3型 イオンコーターを開発、製品化して販売開始する。 |
| 1976年 | TF-1型 凍結割断器を開発、製品化する。 |
| LD-10型 光回折装置開発、製品化する(レーザー光源を使用) | |
| IE-10型 イオンエッチング装置を開発、製品化する。(絶縁物用エッチングメッシュで特許を取得する。) | |
| 1977年 | DX-1型 臨界点乾燥機を開発、製品化する。 |
| FD-2型 凍結試料処理装置を開発、製品化する。 | |
| IB-5型 イオンコーターを開発、製品化する。 | |
| 1978年 | 資本金600万円に増資 |
| CE-10型 ケミカルエッチング装置開発、製品化する。 | |
| IE-20型 イオンシニング装置を開発、製品化する。 | |
| 1979年 | VX-10A マルチコーターを開発、製品化する。 |
| MB-1000型 RHEED(高速電子線反射電子回折装置)を製品化する。 | |
| 1980年 | 業容の拡大に伴い水戸市酒門町地内に社有地を取得、本社、営業所、工場を併せて建設し全面移転する。 |
| 1981年 | 資本金を1,800万円とした。 |
| 1982年 | FD-3型 凍結試料処理装置を開発、製品化する。 |
| MBE装置1号機を受注し納入する。 | |
| 1983年 | RF-20型 瞬間凍結乾燥機を開発、製品化する。 |
| 1985年 | HEMT研究開発用MBE装置を民間企業へ開発納入する。 |
| EV-100型 MBE装置を開発、製品化する。 | |
| 1986年 | 水戸市 株式会社エイコー・エンジニアリング社 出資のもとに、同社製品の販売及び米国RMC社製ウルトラミクロトーム(旧デュポンソーバルミクロトーム)等、輸入販売を旨として東京都渋谷区にアールエムシーエイコー(株)を設立。資本金1,700万円 |
| RMC-Eikoより電子顕微鏡関連の製品を販売開始する。 | |
| 真空一貫のマルチチャンバーシステムを受注し納入する。 | |
| 1987年 | EL-10型 MBE装置を酸化物高温超電導作製用として開発、製品化する。 |
| FD-3A型FD-5A型 凍結試料処理装置を開発、製品化する。 | |
| HR-EELS高分解能電子エネルギー損失分光装置を開発、製品化する。 | |
| 1988年 | EL-10A 反応型MBE装置を開発、民間企業へ納入する。 |
| 1989年 | ユーザーとの共同開発設計をベースに新製品開発等、業務拡大を含め拠点を「かながわサイエンスパーク」に移転。 |
| 1990年 | 社名を「株式会社エイコー」と改め、並びに半導体関連機器の開発設計部門を増設。 |
| 資本金3,000万円に増資 | |
| 超高真空スパッタリング装置を大学へ納入する。 | |
| 大型CVD装置を開発納入する。 | |
| 1991年 | 更に業容の拡大に対応する為、茨城県那珂湊市(現ひたちなか市)山崎工業団地に進出。新工場を建設し全面移転し現在に至る。 |
| EV-500型MBE装置をドイツのヴルツブルグ大学へ輸出する。 | |
| MOMBE装置を開発納入する。 | |
| 1992年 | 有機MBE装置を開発納入する。 |
| EL-10型 MBE装置を台湾へ輸出する。 | |
| MBE/FIB/EB/XPS分析装置のマルチチャンバーシステムを納入。 | |
| 1993年 | 大型マルチチャンバーシステムをドイツのヴルツブルグ大学へ輸出する。 |
| CIGS太陽電池用MBE装置を大学へ開発納入する。 | |
| 1994年 | AFM/STM複合装置を開発納入する。 |
| 窒化Ga用MBE装置をアメリカのボストン大学へ輸出する。 | |
| 1995年 | レーザーアブレーション装置を開発納入する。 |
| 水冷MBE装置を開発して納入する。 | |
| 1996年 | インライン型CIGS太陽電池作製装置を開発納入する。 |
| 有機EL用大型蒸着装置を開発納入する。 | |
| 1997年 | Si/Ge用MBE装置を開発納入する。 |
| 1998年 | 有機EL用多室構成蒸着装置を開発納入する。 |
| ICPイオンエッチング装置を開発納入する。 | |
| ES-350型 マルチターゲットスパッタ装置を開発し納入する。 | |
| XPS分析装置をSPring 8に納入する。 | |
| 1999年 | 超電導用レーザーアブレーション装置を開発納入する。 |
| Si微結晶太陽電池用マルチチャンバーシステムCVD装置を開発納入。 | |
| 2000年 | 兵庫県神戸市に関西営業所(兵庫県神戸市中央区明石町30 常盤ビル602)を設立 |
| EB-5型 集束EB蒸着装置を開発製品化し納入する。 | |
| 2002年 | EO-5型 簡易有機膜作製装置を開発して納入する。 |
| 2003年 | EO-10型 超真空有機デバイス開発装置を納入する。 |
| 2005年 | フィルムスパッタ用ロールコーターを開発納入する。 |
| 2006年 | オフィスを、東京都千代田区神田東松下町12番地JBSL神田ビル4F に移転 |
| 大型CIGS用インライン太陽電池作製装置を開発納入する。 | |
| 2008年 | 薄膜太陽電池作製プラズマCVD装置を開発、納入する。 |
| 2014年 | ぺロブスカイト太陽電池作製装置EP-6を開発納入する。 |
| 2015年 | 原子層堆積装置(ALD)EALD-4を開発納入する。 |
| 2018年 | 現住所(東京都千代田区鍛冶町2-10-7 フェスタビル2F)に移転 |
| イオンミリング装置IE-30を開発納入する。 |