日本テクノリード株式会社

日本テクノリード株式会社の概要

電子機器・電子部材分野を主な市場とし、レーザ技術、露光技術、光リソグラフィープロセス技術を活用した製品の輸出入、販売、保守サービス、およびプロセス関連装置の製造・販売事業を展開している。特に、フォトマスク関連、半導体プロセス分析関連、FPD（フラットパネルディスプレイ）用途の検査・修正分野に注力している。 主力製品としては、フォトマスク関連では、マスク用CD測長装置、マスク用レーザ修正装置、マスク描画装置、マスク用座標測定機などを提供している。マスク用CD測長装置は、ドイツMuetec社製で、最小線幅0.36μmまで測定可能であり、フォトマスク業界の標準設備として多数の実績を持つ。マスク用レーザ修正装置は、韓国COWIN社製で、FPD用および半導体用に対応し、0.5μm以下の高精細ZAPと密着性の高いCVD性能が特長である。マスク描画装置は、Artfil社製で、DMDを用いた高速・高精細描画を実現し、最小線幅0.5μmを実現する。 半導体関連製品では、AMCモニター機器、FOUP用AMCモニター、ウェハーマクロ検査装置、オーバーレイ測定・IR検査機などを取り扱う。AMCモニター機器は、台湾Tricorntech社製で、0.1ppbレベルでの測定が可能であり、国内外の大手半導体メーカーに採用されている。ウェハーマクロ検査装置およびオーバーレイ測定・IR検査機は、ドイツMuetec社製で、200mm/300mmウェハー量産に対応し、高速処理と安定した装置提供を実現している。 プロセス関連製品では、レジストコータ・塗布装置、プロセス（現像・エッチング・剥離）装置、マスク洗浄装置などを自社ブランドで提供している。特に、フォトマスク基板へのフォトレジスト塗布に用いられるスピンコータは、1%以下の膜厚均一性を達成し、カスタムメイドでの設計・製造が主力である。 レーザ関連装置としては、FFM（ファインメタルマスク）修正装置、3Dレーザ造形装置、3次元測長装置などを扱っている。3Dレーザ造形装置は、中国Riton社製で、金属、プラスチック、義歯材料などの3次元造形が可能である。 電子材料としては、サファイア基板、Si基板、石英基材などを販売サポートしている。 技術的強みとしては、レーザ技術、露光技術、光リソグラフィープロセス技術を活用した製品開発力と、国内外の協力会社との連携による幅広い製品ラインナップが挙げられる。特に、微細化が進む半導体製造プロセスにおいて不可欠なAMCモニター技術や、高精細なマスク描画・修正技術に強みを持つ。 取引先業界は、主に半導体、FPD、電子機器関連であり、日本国内に加え、東アジア圏（中国、韓国、台湾）にも営業活動を展開している。従業員数は公開されていないが、資本金は4100万円である。

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