東芝ナノアナリシス株式会社
従業員数 253人
半導体、液晶、金属、新素材を中核とした幅広い業界向けに、ナノレベルの微細加工、分析、解析サービスを提供しています。信頼性評価や環境安全化学分析、各種ソリューショ
加工方法シャーリング加工機能検査
設備検査・測定機材料切断機基板加工設備化学加工装置非破壊検査装置
対応可能な材料エポキシ樹脂その他アルミナ樹脂・プラスチック合成ゴムカーボン材はんだ・ろう材炭化ケイ素シリコーンゴム窒化ケイ素ファインセラミック純ニッケル亜鉛・亜鉛合金金・銀・白金・パラジウム貴金属・高融点金属ニッケル合金モリブデン接着剤
概要
半導体、液晶、金属、新素材を中核とした幅広い業界向けに、ナノレベルの微細加工、分析、解析サービスを提供しています。信頼性評価や環境安全化学分析、各種ソリューションも手がけています。お客様の先端技術革新を支援し、豊かな未来づくりに貢献しています。
事業内容
ナノ構造解析、表面分析、半導体解析、半導体パッケージ・実装解析、信頼性・非破壊観察、環境安全化学分析
設備情報
| 設備名 | 加工方法名 | メーカー名 | 保有台数 |
|---|---|---|---|
| SEC | - | - | - |
| LC/MS/MS | - | - | - |
| イオンミリング | - | - | - |
| ダイシングソー | - | - | - |
| OM | - | - | - |
| SEM | - | - | - |
| 低加速SEM | - | - | - |
| TEM | - | - | - |
| STEM | - | - | - |
| SPM | - | - | - |
| ALD | - | - | - |
| XRD | - | - | - |
| TEM | - | - | - |
| STEM | - | - | - |
| 3DAP(APT) | - | - | - |
| TEM | - | - | - |
| XPS | - | - | - |
| EPMA | - | - | - |
| HAXPES | - | - | - |
| TOF-SIMS | - | - | - |
| XPS | - | - | - |
| SIMS | - | - | - |
| XPS | - | - | - |
| SIMS | - | - | - |
| XRD | - | - | - |
| XRR | - | - | - |
| SAXS | - | - | - |
| Raman | - | - | - |
| TDS | - | - | - |
| TPD-MS | - | - | - |
| TEM | - | - | - |
| XPS | - | - | - |
| EPMA | - | - | - |
| HAXPES | - | - | - |
| TOF-SIMS | - | - | - |
| SIMS | - | - | - |
| XPS | - | - | - |
| 透過X線観察装置 | - | - | - |
| SAM | - | - | - |
| SAT | - | - | - |
| OM | - | - | - |
| SEM | - | - | - |
| 低加速SEM | - | - | - |
| TEM | - | - | - |
| STEM | - | - | - |
| AFM | - | - | - |
| SEM | - | - | - |
| TEM | - | - | - |
| EPMA | - | - | - |
| STEM | - | - | - |
| 3DAP(APT) | - | - | - |
| FT-IR | - | - | - |
| GC/MS | - | - | - |
| Py-GC/MS | - | - | - |
| Raman | - | - | - |
| LC/TOF-MS | - | - | - |
| FT-IR | - | - | - |
| GC/MS | - | - | - |
| TG-DTA | - | - | - |
| TG-DTA/MS | - | - | - |
| HPLC/UV | - | - | - |
| HPLC/蛍光 | - | - | - |
| IC | - | - | - |
| ICP-OES | - | - | - |
| XRF | - | - | - |
| GC/MS | - | - | - |
| TOF-SIMS | - | - | - |
| HPLC/UV | - | - | - |
| HPLC/蛍光 | - | - | - |
| LC/MS/MS | - | - | - |
| IC | - | - | - |
| GC/MS | - | - | - |
| GC/FID | - | - | - |
| GC/FPD | - | - | - |
| GC/TCD | - | - | - |
| TG-DTA/MS | - | - | - |
| TDS | - | - | - |
| TPD-MS | - | - | - |
| TG-DTA | - | - | - |
| DSC | - | - | - |
| TMA | - | - | - |
| 半導体パラメータアナライザ | - | - | - |
| カーブトレーサ | - | - | - |
| パルスジェネレータ | - | - | - |
| 透過X線観察装置 | - | - | - |
| SAM | - | - | - |
| SAT | - | - | - |
| 3次元X線顕微鏡 | - | - | - |
| OBIRCH | - | - | - |
| PEM(EMS) | - | - | - |
| FIB | - | - | - |
| 断面/表面研磨 | - | - | - |
| ダイヤモンドワイヤーソー | - | - | - |
| イオンミリング(断面/表面) | - | - | - |
| OM | - | - | - |
| SEM | - | - | - |
| 低加速SEM | - | - | - |
| TEM | - | - | - |
| STEM | - | - | - |
| AFM | - | - | - |
| SEM | - | - | - |
| TEM | - | - | - |
| EPMA | - | - | - |
| 3DAP(APT) | - | - | - |
| SCM | - | - | - |
| 恒温試験槽(高温・低温) | - | - | - |
| 恒温恒湿試験槽/温湿度サイクル試験槽 | - | - | - |
| HAST槽 | - | - | - |
| X線照射装置 | - | - | - |
| 温度サイクル試験槽(気槽式) | - | - | - |
| 熱衝撃試験槽(液槽式) | - | - | - |
| 急速温度変化試験槽 | - | - | - |
| リフロー装置 | - | - | - |
| 万能強度試験装置 | - | - | - |
| 曲げ試験装置 | - | - | - |
| SAM | - | - | - |
| SAT | - | - | - |
| 3次元X線顕微鏡 | - | - | - |
| 磁場顕微鏡 | - | - | - |
| GC/MS | - | - | - |
| IC | - | - | - |
| ICP-MS | - | - | - |
| SWA-GC/MS | - | - | - |
| ICP-OES | - | - | - |
| XRF | - | - | - |
| IC | - | - | - |
| ガス分析(酸素・窒素/炭素・硫黄) | - | - | - |
| GC | - | - | - |
| ICP-MS | - | - | - |
| IC | - | - | - |
| FT-IR | - | - | - |
| GC/MS | - | - | - |
| Py-GC/MS | - | - | - |
| Raman | - | - | - |
| LC/TOF-MS | - | - | - |
| FT-IR | - | - | - |
| GC/MS | - | - | - |
| TG-DTA | - | - | - |
| TG-DTA/MS | - | - | - |
| HPLC/UV | - | - | - |
| HPLC/蛍光 | - | - | - |
| IC | - | - | - |
| LC/MS/MS | - | - | - |
| SEC | - | - | - |
| GC/MS | - | - | - |
| TOF-SIMS | - | - | - |
| HPLC/UV | - | - | - |
| HPLC/蛍光 | - | - | - |
| LC/MS/MS | - | - | - |
| IC | - | - | - |
| GC/MS | - | - | - |
| GC/FID | - | - | - |
| GC/FPD | - | - | - |
| GC/TCD | - | - | - |
| TG-DTA/MS | - | - | - |
| TDS | - | - | - |
| TPD-MS | - | - | - |
| TG-DTA | - | - | - |
| DSC | - | - | - |
| TMA | - | - | - |
| GC/FID | - | - | - |
| GC/TCD | - | - | - |
| LC/MS/MS | - | - | - |
| ICP-OES | - | - | - |
| ICP-MS | - | - | - |
| IC | - | - | - |
| カーボンエアロゾル装置 | - | - | - |
| LC/MS/MS | - | - | - |
| ICP-MS | - | - | - |
| HPLC/ECD | - | - | - |
| LC/MS/MS | - | - | - |
| ED-XRF | - | - | - |
| ED-μXRF | - | - | - |
| GC/MS | - | - | - |
| ICP-OES | - | - | - |
| ICP-MS | - | - | - |
| LC/MS/MS | - | - | - |
| 3次元X線顕微鏡 | - | - | - |
詳細情報
| 従業員数 | 253名 |
|---|---|
| 郵便番号 | 〒212-0001 |
| 住所 | 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1 |
| 事業内容 | ナノ構造解析、表面分析、半導体解析、半導体パッケージ・実装解析、信頼性・非破壊観察、環境安全化学分析 |
| 公式サイト | https://www.nanoanalysis.co.jp/ |