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東芝ナノアナリシス株式会社

従業員数 253
設備検査・測定機放射線検査装置非破壊検査装置
対応可能な材料エポキシ樹脂その他アルミナ

東芝ナノアナリシス株式会社概要

半導体、液晶、金属、新素材を中核とした幅広い業界向けに、ナノレベルの微細加工、分析、解析サービスを提供しています。信頼性評価や環境安全化学分析、各種ソリューションも手がけています。お客様の先端技術革新を支援し、豊かな未来づくりに貢献しています。

東芝ナノアナリシス株式会社事業内容

ナノ構造解析、表面分析、半導体解析、半導体パッケージ・実装解析、信頼性・非破壊観察、環境安全化学分析

東芝ナノアナリシス株式会社設備情報

設備メーカー特徴・能力保有台数
3DAP(APT)---
TOF-SIMS---
リフロー装置---
ICP-MS---
GC/TCD---
GC/MS---
TPD-MS---
TG-DTA---
GC/FPD---
ICP-MS---
HPLC/ECD---
EPMA---
Py-GC/MS---
LC/MS/MS---
SAT---
3次元X線顕微鏡---
XPS---
XPS---
低加速SEM---
IC---
低加速SEM---
TEM---
3次元X線顕微鏡---
ED-μXRF---
SEM---
GC/MS---
TEM---
X線照射装置---
SAM---
SEC---
温度サイクル試験槽(気槽式)---
低加速SEM---
透過X線観察装置---
XRD---
3次元X線顕微鏡---
磁場顕微鏡---
GC/MS---
XPS---
LC/MS/MS---
透過X線観察装置---
HPLC/UV---
3DAP(APT)---
HPLC/UV---
STEM---
XPS---
TPD-MS---
OBIRCH---
HPLC/蛍光---
カーブトレーサ---
TOF-SIMS---
GC/FID---
ED-XRF---
LC/TOF-MS---
ICP-MS---
恒温試験槽(高温・低温)---
IC---
HPLC/UV---
FT-IR---
GC/MS---
XRF---
OM---
IC---
SAM---
SIMS---
PEM(EMS)---
IC---
AFM---
FT-IR---
GC/FID---
TG-DTA---
GC/MS---
GC/FID---
断面/表面研磨---
GC---
イオンミリング(断面/表面)---
半導体パラメータアナライザ---
TG-DTA/MS---
GC/TCD---
イオンミリング---
LC/MS/MS---
急速温度変化試験槽---
HPLC/蛍光---
GC/MS---
XRR---
ICP-OES---
FIB---
GC/FPD---
HAXPES---
SCM---
TDS---
OM---
LC/MS/MS---
GC/MS---
LC/MS/MS---
STEM---
STEM---
恒温恒湿試験槽/温湿度サイクル試験槽---
LC/MS/MS---
TOF-SIMS---
ICP-OES---
LC/TOF-MS---
TMA---
TEM---
GC/MS---
EPMA---
EPMA---
SEC---
Py-GC/MS---
ICP-OES---
TEM---
Raman---
EPMA---
カーボンエアロゾル装置---
XRF---
SWA-GC/MS---
TG-DTA---
HAXPES---
TEM---
GC/MS---
IC---
STEM---
TEM---
万能強度試験装置---
ダイヤモンドワイヤーソー---
ICP-MS---
SIMS---
ICP-OES---
TMA---
TPD-MS---
ガス分析(酸素・窒素/炭素・硫黄)---
3DAP(APT)---
GC/MS---
SAT---
IC---
SEM---
IC---
GC/TCD---
TG-DTA/MS---
熱衝撃試験槽(液槽式)---
SAT---
TEM---
パルスジェネレータ---
HAST槽---
SEM---
IC---
SAM---
XRD---
LC/MS/MS---
HPLC/蛍光---
FT-IR---
FT-IR---
Raman---
TG-DTA/MS---
DSC---
SPM---
SIMS---
SAXS---
LC/MS/MS---
ALD---
ICP-MS---
HPLC/蛍光---
TDS---
DSC---
Raman---
OM---
SEM---
XPS---
ダイシングソー---
TDS---
TG-DTA---
TEM---
STEM---
HPLC/UV---
TG-DTA/MS---
曲げ試験装置---
AFM---
TOF-SIMS---
SEM---

東芝ナノアナリシス株式会社詳細情報

従業員数
253名
郵便番号
〒212-0001
住所
神奈川県川崎市幸区小向東芝町1
公式サイト
https://www.nanoanalysis.co.jp/

東芝ナノアナリシス株式会社沿革

1981年東芝マイコンエンジニアリング株式会社 設立
1982年東芝電子デバイスエンジニアリング株式会社 設立
1983年分析・解析業務スタート
1984年信頼性ラボラトリー解析ラボ、評価ラボ担当発足
1989年東芝マイクロエレクトロニクス株式会社に社名変更(現、東芝デバイスソリューション株式会社)
1991年東芝電子エンジニアリング株式会社に社名変更(現、東芝デベロップメントエンジニアリング株式会社)
1994年東芝マテリアルエンジニアリング株式会社 分析部門と統合
1995年分析評価センターを設立
1999年信頼性統括部発足 解析センター、信頼性ラボとの2部体制へ
2000年ISO 9001認証取得
2001年信頼性統括部がナノテックス社として社内分社化
2002年東芝ナノアナリシス株式会社設立
2006年ISO/IEC 17025認定取得(電気試験)
ジャパン・エア・ガシズ株式会社(現、日本エア・リキード合同会社)が資本参加
2009年OHSAS 18001認証取得
2011年ISO/IEC 17025認定取得(化学試験)
2012年創立10周年を迎える
2021年ISO 45001認証取得(OHSAS 18001からの移行認証)
2022年創立20周年を迎える