Eigyo 営業製作所
サンリツテクノ株式会社
設立 1970年従業員数 35人
加工方法マシニングセンタ加工寸法検査研削加工
設備両頭研磨機/研削盤研磨機/研削盤材料切断機
対応可能な材料アルミナガラスファインセラミック
サンリツテクノ株式会社の概要
同社はセラミックス、ガラス、結晶材料の受託加工を手がけています。切断、研削、研磨、マシニングセンターによる精密微細加工技術を提供しています。不定期な多品種少量生産から量産まで、幅広いニーズに対応しています。製品化や事業化に必要な加工技術を開発し、素材の新たな可能性を追求しています。
サンリツテクノ株式会社の事業内容
セラミックス・ガラス・結晶材料の受託加工,切断加工,研削加工,研磨加工,マシニングセンター加工
サンリツテクノ株式会社の設備情報
| 設備 | メーカー | 特徴・能力 | 保有台数 |
|---|---|---|---|
| 両面研磨機 | - | - | 1台 |
| オスカー研磨機 | - | - | 10台 |
| 両面研磨機 | - | - | 1台 |
| スライサ | 東京精機 | - | 6台 |
| 横軸平面研削盤(サーフェイス) | - | - | 4台 |
| 横軸平面研削盤(サーフェイス) | - | - | 2台 |
| 横軸平面研削盤(サーフェイス) | - | - | 1台 |
| ダイサ | 東芝機械 | - | 1台 |
| 横軸横型ロータリ研削盤 | - | - | 1台 |
| 縦軸縦型ロータリ研削盤 | - | - | 3台 |
| 片面研磨機 | - | - | 2台 |
| 横軸横型ロータリ研削盤 | - | - | 3台 |
| 縦型マシングセンタ | 東芝機械 | - | 2台 |
| 片面研磨機 | - | - | 6台 |
| オスカー研磨機 | - | - | 4台 |
| 両面研磨機 | - | - | 2台 |
| ダイサ | 東京精密 | - | 1台 |
| 横軸縦型ロータリ研削盤 | - | - | 5台 |
| 横軸縦型ロータリ研削盤 | - | - | 4台 |
| 片面研磨機 | - | - | 9台 |
| 両面研磨機 | - | - | 2台 |
| スライサ | 東芝機械 | - | 2台 |
| 横軸平面研削盤(サーフェイス) | - | - | 3台 |
| 横型マシングセンタ | OKUMA | - | 1台 |
| 測定顕微鏡 | NIKON | - | 2台 |
| 測定顕微鏡 | OLYMPUS | - | 1台 |
| 形状解析レーザ顕微鏡 | KEYENCE | - | 1台 |
| 面粗さ測定装置 | Mitutoyo | - | 1台 |
| 画像寸法測定器 | KEYENCE | - | 1台 |
| 測定顕微鏡 | OLYMPUS | - | 2台 |
| 厚み測定機 | Nikon | - | 2台 |
| 平行・平面度測定装置 | Cores | - | 1台 |
| 縦型マシングセンタ | FANUC | - | 4台 |
| 厚み測定機 | Mitutoyo | - | 5台 |
| 縦型マシングセンタ | FANUC | - | 2台 |
| 縦型マシングセンタ | MAKINO | - | 1台 |
| 三次元形状測定器 | KEYENCE | - | 1台 |
| 反射分光式膜厚測定機 | FILMETRICS | - | 1台 |
| 三次元測定機 | 東京精密 | - | 1台 |
| 縦型マシングセンタ | 東芝機械 | - | 1台 |
| 面粗さ測定装置 | Mitsutoyo | - | 1台 |
| レーザ干渉計 | 溝尻光学 | - | 1台 |
| 測定顕微鏡 | Mitutoyo | - | 1台 |
サンリツテクノ株式会社の詳細情報
- 設立
- 1970年7月
- 従業員数
- 35名
- 郵便番号
- 〒406-0045
- 住所
- 山梨県笛吹市石和町井戸211-4
- 電話番号
- 055-263-7632
- FAX
- 055-263-7527
- 公式サイト
- http://www.sanritsutechno.co.jp/
サンリツテクノ株式会社の沿革
| 1970年 | 7月 神奈川県相模原市に「三立金属工業所」を創立 |
|---|---|
| フェライトマグネットの受託加工を開始 | |
| 1973年 | 3月 相模原市鹿沼台に工場を移転 |
| オーディオ、ビデオ、フロッピーディスクヘッド部品の受託加工を開始 | |
| 1980年 | 4月 相模原市上溝に本社工場完成 |
| 10月 「三立磁気工業株式会社」設立 (資本金 200万円) 代表取締役 小島武次 | |
| 1984年 | 11月 (資本金 800万円) |
| 1988年 | 6月 山梨県石和町に甲府工場完成 |
| 1990年 | 10月 「サンリツテクノ株式会社」に社名変更 (資本金 1,500万円) |
| 1991年 | 11月 甲府工場の設備増強(投資額1億円) |
| フロッピーディスクヘッド部品の増産開始 | |
| 1993年 | 7月 ファインセラミックス関連事業 フェライト向け平坦化技術を応用した鏡面研磨技術の確立 |
| 7月 ファインセラミックス関連事業 ガラス、セラミックス、結晶材料 の受託加工を開始 | |
| 11月 半導体関連事業 ULSI用CVD-SiC基板の膜厚コントロール研磨技術を確立 | |
| 1994年 | 3月 生産拠点を甲府工場に集約 |
| 1995年 | 10月 オプトエレクトロニクス関連事業 光ファイバーアレー用石英ガラス治具 他 |
| 1998年 | 3月 医療機器関連事業 (シンチレータ) シンチレータ用結晶材料に対する 4側面鏡面+ラミネート+上下面鏡面 技術を確立 CTスキャンヘッド 他 |
| 9月 フィルム成形用金型 金型材の平坦化・鏡面研磨技術を確立 NAK材、STAVAX材 他 | |
| 1999年 | 8月 セラミックス球体 ファインセラミックス球体研磨技術を確立 シリコン球体(φ0.8~)、アルミナ球体、SiC球体、SiN球体 他 |
| 2003年 | 6月 MEMS関連事業 (パターン付基板の調厚研磨) バックポリッシュによる調厚研磨技術を確立 シリコン基板、ガラス基板、各種接合基板 他 |
| 2004年 | 10月 半導体関連事業 (口径300mm) 平面度をコントロールした精密研削技術を確立 アルミナ基材、アルミナ溶射基材、SiC基材 他 |
| 2005年 | 1月 本社を甲府工場に移転 |
| 2007年 | 6月 MEMS関連事業(金属充填基板) 銅メッキ基板、銀ペースト充填基板の研磨技術を確立 ガラス基板、シリコン基板、アルミナ基板 他 |
| 2008年 | 12月 半導体関連事業(検査装置用プローブカード) 外形アライメント切断、金属VIAの凹凸コントロール研磨技術を確立 Φ100LTCC基板、16角形Φ325LTCC基板 他 |
| 2014年 | 9月 半導体関連事業(口径450mm) 大口径セラミックスの凹面研削技術を確立 アルミナ基材、アルミナ溶射基材、SiC基材 他 |
| 2016年 | 5月 甲府工場に新棟完成 |